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加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 Phenom ProX 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過(guò)改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升級(jí)，易于操作，元素分析更快速。

Phenom Particle Metric顆粒測(cè)試以較快、較簡(jiǎn)便的方式實(shí)現(xiàn)顆粒的可視化分析，是微觀顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步?？焖佟⒁子煤统逦鷪D像質(zhì)量的Phenom飛納掃描電鏡，加上Particle Metric顆粒系統(tǒng)的顆粒圖像分析功能，為用戶(hù)提供了分析顆粒和粉末試樣的*工具。

荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，使用戶(hù)可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優(yōu)異。飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 低電壓成像優(yōu)勢(shì)明顯，可減輕電子束對(duì)樣品的損傷和穿透，更好地觀測(cè)絕緣和電子束敏感的樣品，可以還原樣品真實(shí)形貌。

第七代飛納臺(tái)式掃描電鏡高分辨率專(zhuān)業(yè)版Phenom Pro 是一款功能*，輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 CeB6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，Phenom Pro 可以適用于廣泛的研究領(lǐng)域。

全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。Phenom XL G2 臺(tái)式掃描電鏡大樣品室版升級(jí)為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì) 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。